微纳米压印光刻工艺及装备在光电子器件中的应用与挑战

微纳米压印光刻技术（Nanoimprint Lithography, NIL）因其高分辨率、高效率、低成本和工艺简单等优点，在光电子器件的制备中具有重要的应用前景。本文系统地分析微纳米压印光刻的工艺原理、关键装备及其在光电子器件如发光二极管(LED)、太阳能电池、光电探测器和光子晶体中的集成应用，并针对目前加工的偏差分布、器件集成缺陷进行综述。科学性地展望采用新兴的三维、可分缺陷的新型压印及大台面滚动复合式中在近期NIL领域的发展思维推进发展路径。旨在为本大类在现代光电整体转用操作给予策略决办术分析并兼护。

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